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光学系统光学结构全谱真空型光学系统光室温度自动控制恒温：35℃±0.5℃波长范围160-800nm光栅焦距350 mm光栅刻线3600 l/mm一级光谱线色散率1.2 nm/mm探测器多块高性能线阵CCD平均分辨率10pm/pixel激发台气体冲氩式氩气流量激发时3-5L/min，待机时:无须待机流量电极钨材

应用领域：

主要应用于冶金、机械、科研院所、商检、汽车、化工、造船、电力、航空航天、核电等行业，在中心实验室或炉前对黑色纯金属及其合金、有色纯金属及其合金中化学成分的准确定量分析。材料基体类别有Fe、Al、Cu、Ni、Pb、Zn、Mg、Co、Sn、Ti等，是金属材料质量控制、成本控制、研究开发*的关键检测设备。
产品特点：

●全新标准设计、高集成电路、独立供电、整体出缝，仪器调试方便、快捷，便于增加通道；

●部件品质优良，核心部件全购专业厂家；

●技术先、软件功能齐全、灵活；

●DF-100E直读光谱仪主要用于单基体的分析；

●外形尺寸及重量：长1420mm，宽920mm，高1300mm；重量约400kg。

光学系统
光学结构	全谱真空型光学系统
光室温度	自动控制恒温：35℃±0.5℃
波长范围	160-800nm
光栅焦距	350 mm
光栅刻线	3600 l/mm
一级光谱线色散率	1.2 nm/mm
探测器	多块高性能线阵CCD
平均分辨率	10pm/pixel
激发台
气体	冲氩式
氩气流量	激发时3-5L/min，待机时:无须待机流量
电极	钨材喷射电极技术
吹扫	点击自吹扫功能
补偿	热变形自补偿设计
分析间隙	样品台分析间隙：4mm
激发光源
类型	HEPS数字化固态光源
频率	100-1000Hz
放电电流	1-80A
特殊技术	放电参数优化设计
预燃	高能预燃技术
数据采集系统
处理器	ARM处理器，高速数据同步采集处理
接口	基于DM9000A的以太数据传输
电源与环境要求
输入	220VAC 50Hz
功率	分析时大700W，待机状态40W
工作温度	10-30℃（该温度范围内温度变化不大于5℃/h）
工作湿度	20-80%
尺寸与重量
尺寸	800450500 mm
重量	85Kg