当前产品纳米表面轮廓仪

纳米表面轮廓仪

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  • 公司名称上海昊量光电设备有限公司
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  • 厂商性质其他
  • 更新时间2024/2/13 16:13:16
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产品详情

纳米表面轮廓仪

IMOS纳米表面轮廓仪实现了精确、定量、iso兼容、非接触式表面测量和表征微和纳米尺度的表面特征,在短短几秒钟内可捕获多达200万个数据点。选择正确的光学轮廓仪系统取决于您的应用程序的要求,包括速度、精度、垂直范围、自动化和灵活性。

IMOS光学表面轮廓仪在非接触式光学表面轮廓方面提供了强大的通用性。有了该系统,它可以方便快捷地测量各种表面类型,包括光滑、粗糙、平坦、倾斜和阶梯。所有的测量都是无损的,快速的,不需要特殊的样品准备。纳米表面轮廓仪系统的核心是部分相干光干涉技术,它提供亚纳米精度测量更广泛的表面比其他商业可用技术。


IMOS 纳米表面轮廓仪提供了不同的应用程序的特殊价值,如平直,粗糙度,波浪形,台阶高度等等。
IMOS 纳米表面轮廓仪配备了一个头,可以填充离散变焦光学定制的系统。样本分段配置范围从自动化到自动化的编码行程。

IMOS 纳米表面轮廓仪提供高精度测量,易于使用,快速测量,及吸引力的价格,使其成为多功能3D光学轮廓仪的理想选择。


主要优点:

  • 纳米模式下的Z轴分辨率:

           ~ 30pm微起伏模式(使用原子级光滑镜)

             ~ 0.3um微地貌模式下

  • 外形紧凑;

  • 快速响应;

  • 抗外部振动;

  • 测量过程自动化程度高;

  • 特殊的用户友好的界面;

  • 高质量的图形界面,以工作与多计划三维表示的测量结果;

  • 广泛的可能性配置的显微镜,以各种形态-逻辑的测量表面;

  • 能够工作在两种模式:微浮雕和纳米浮雕;

  • 的存储系统和测量结果的系统化。


在硅基板上的Pd薄膜,高度100nm硅晶体表面的阶地,高度为0.314nm在硅基板上的Pd薄膜,高度100nm

微起伏模式下的测量结果

IMOS纳米表面轮廓仪组成 

                    光电探测器*
矩形-1392*1040 px
光源 * 
LED (λeff = 630 nm)
显微物镜*
20x (or 10x, 5x) 2 items
放大率不变
                                     扫描

位移台


  • 1d (Z) range 50 mm 

  • 2d (XY) range 75x50 mm


控制器
  • CCD-相机抓帧器

  • 位移台控制器

  • 设备控制器 

硅晶体表面的阶地,高度为0.314nm   
                                       计算机 
软件
  • Software for working with IMOS

  • System / MS Windows

 
认证口径,标称高度值为101nm±3%
* – 按客户需求 


微地貌模式下的测量结果

技术指标

                             测量区域 
0,4x0,3 mm2 (for 20X
像素尺寸 
0,3 μm (for 20X
横向分辨率
Not worse 1 μm 
测量模式 
  • 微地貌模式

  • 微起伏模式 

认证口径, 厚 40 ± 1,2 μm   
                            Z轴分辨率
  • 微地貌模式 ~ 0,3 μm

  • 微起伏模式 ~ 30 pm (with atomically smoth mirror) 

测量范围 
  • 微地貌模式 up to 50 mm

  • 微起伏模式 up to 20 μm 

测量速度 
  • 微地貌模式 ~ 4 μm/s

  • 微起伏模式 ~ 20 μm/10s 

衍射元件, 厚 3,7 μm   




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