（HE-WD-500）VCD豪恩高真空箱

随着科技的不断发展，各种先进的工业设备不断涌现，VCD高真空箱便是其中之一。作为一种在多个领域都有着广泛应用的重要设备，VCD高真空箱以其性能优势，为科研人员、工程师和技术人员提供了强有力的支持。本文将详细介绍VCD高真空箱的工作原理、特点、应用领域以及技术参数。

一、VCD高真空箱的工作原理

VCD高真空箱是一种能够在特定空间内创造并维持高真空环境的设备。其工作原理主要依赖于真空泵和真空密封系统。真空泵通过抽取容器内的气体分子，使容器内部的气体压力逐渐降低，从而达到所需的真空度。同时，真空密封系统确保容器在抽气过程中不会漏气，以保持稳定的真空环境。

二、VCD高真空箱的特点

1. 高真空度：VCD高真空箱能够创造并维持极低的真空环境，以满足各种实验和生产需求。
2. 稳定性好：设备采用先进的真空密封技术和控制系统，确保在长时间运行过程中，真空度能够保持稳定。
3. 操作简便：VCD高真空箱通常配备有智能控制系统，用户可以通过触摸屏或电脑软件轻松设置和监控设备的工作状态。
4. 安全性高：设备设计符合相关安全标准，具有过压保护、过热保护等安全措施，确保操作人员和设备的安全。
5. 适用范围广：VCD高真空箱可用于半导体制造、光学镀膜、材料研究等多个领域，具有广泛的应用前景。

三、VCD高真空箱的应用领域

1. 半导体制造：在半导体制造过程中，VCD高真空箱被用于晶圆处理、镀膜、离子注入等关键工艺步骤，以确保产品的质量和性能。
2. 光学镀膜：VCD高真空箱为光学镀膜提供了理想的实验和生产环境，使得薄膜材料能够在高真空条件下均匀沉积，从而获得高质量的光学器件。
3. 材料研究：在材料研究领域，VCD高真空箱被用于研究材料的物理、化学和机械性能，以及材料在真空环境下的行为变化。
4. 航空航天：在航空航天领域，VCD高真空箱被用于模拟太空环境，测试航天器及其部件在真空环境下的性能表现。
5. 其他领域：除了以上领域外，VCD高真空箱还可用于真空焊接、真空热处理、真空干燥等多个领域。

四、VCD高真空箱的技术参数

规格型号： HE-WD-300 HE-WD-400 HE-WD-500 HE-WD-600

内箱尺寸(mm)： 300×300×300 400×400×400 500×500×500 600×600×600

外形尺寸(mm)： 700×550×1250 700×660×1450 780×770×1550 900×860×1650

真空度范围： 100000Pa～1Pa

控制方式： 真空计显示或PLC触摸屏控制

结构： 一体式结构（内置真空泵）或分体式（外置真空泵）

内箱材质： SUS304#不锈钢

外箱材质： SECC钢板高级烤漆处理

使用电源： AC 单相 三线 220V 50HZ或AC 三相 五线 380V 50HZ

选加功能： 加热功能（RT+10℃～200℃）

真空泵： 另购（可用户自备）